PANAMA
Masque polymère pour la microfabrication
Bénéfices
- Adapté aux matériaux sensibles chimiquement
- Simple d’utilisation
- Ultra-clean
Mots clefs
- Lithographie
- Microfabrication
- Voie sèche/aqueuse
- InsStencil
Laboratoire
- NEEL
Établissements
- CNRS
- GRENOBLE INP-UGA
- UGA
Continuum Linksium
- Maturation
Contexte
Les dispositifs électroniques, microfluidiques innovants incluent de plus en plus de nouveaux matériaux, dont certains ne sont pas compatibles avec les procédés de microfabrication standard, ce qui constitue un verrou à leur intégration.
Technologie
Grâce à un masque polymère adapté à chaque particularité du matériau visé, le procédé PANAMA peut remplacer toute étape de microfabrication trop délicate ou trop difficile à mettre en œuvre.
Avantages
La solution PANAMA permet d’éliminer les contraintes de la lithographie classique (adhésion, sensibilité des matériaux, équipements lourds) en proposant une solution de structuration universelle, sèche et basse température.
Maturité
La technologie PANAMA est validée au TRL 3 pour la réalisation de motifs allant jusqu’à 300 nm.
Applications
La technologie des masques aide à surmonter les obstacles liés à la microfabrication de MEMS, de circuits microfluidiques, de dispositifs pour la photonique tout en facilitant les phases de raccordement back-end.
On en parle dans le magazine
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